Optimalizace procesu depozice pasivační vrstvy PECVD nitridu na Si deskách s integrovanými obvody

Autor
Čech, Petr
Vedoucí práce
Datum vydání
2002
Typ dokumentu
Diplomová práce
Lokace
ÚK/Sklad diplomových prací
Signatura
33101/9231
Metadata
Zobrazit celý záznam
Poznámka
Import 20/04/2006
URI
http://hdl.handle.net/10084/45163
Kolekce
Citace PRO