Interferometrie tenkých vrstev

DSpace/Manakin Repository

aaK citaci nebo jako odkaz na tento záznam použijte identifikátor: http://hdl.handle.net/10084/83403

Show simple item record


dc.contributor.advisor Hlubina, Petr en
dc.contributor.author Luňáčková, Milena en
dc.date.accessioned 2010-11-11T14:16:40Z
dc.date.available 2010-11-11T14:16:40Z
dc.date.issued 2010 en
dc.identifier.other OSD002 cs
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10084/83403
dc.description Import 11/11/2010 cs
dc.description.abstract Významnou roli v současných moderních technologiích hrají systémy tenkých vrstev. Pro jejich aplikace a praktické využití je nezbytné znát jejich základní optické parametry: tloušťku, index lomu a extinkční koeficient. K určení těchto parametrů se velmi často používá nepřímých metod, kdy se kombinují vhodné modelové představy s experimentálními metodami. V prezentované disertační práci je studován systém substrát – tenká vrstva – superstrát, kde substrát je tvořen monokrystalickou křemíkovou deskou, tenkou vrstvu tvoří oxid křemičitý, který byl vytvořen na substrátu metodou suché oxidace, a superstrátem je vzduch. Pro měření jsou využívány metody spektrální interferometrie a spektrální reflektometrie. Při metodě spektrální interferometrie se používá Michelsonova interferometru a bílého světla, které dopadá kolmo na povrch zkoumaného systému s tenkou vrstvou. Spektrální reflektometrie používá komerčního spektrofotometru Shimadzu UV-3600, který má rozsah vlnových délek 185 – 3300 nm. Těžištěm disertační práce jsou nové metody určení tloušťky tenké vrstvy z experimentálních dat, získaných výše uvedenými metodami. Při zpracování měření z Michelsonova interferometru se pro určení tloušťky používá metody, která využívá rekonstrukce fáze interferenčního signálu pomocí okenní Fourierovy transformace a waveletové transformace. To vede k podstatnému zjednodušení při zpracování interferenčního spektra, protože odpadá potřeba zabývat se relativně složitou obálkovou funkcí, reprezentující viditelnost. Při vyhodnocování spekter odrazivosti je nejdříve diskutován vliv použitého modelu odrazivosti na určení velikosti tloušťky tenké vrstvy. Dále je prezentována a diskutována nová alternativní metoda měření odrazivosti, která používá místo referenčního zrcadla substrát o známé odrazivosti. Jako nová metoda určení tloušťky tenké vrstvy je ukázána varianta obálkové metody, která využívá jednoduchý lineární vztah mezi tloušťkou tenké vrstvy a vlnovou délkou odpovídající bodu dotyku mezi spektrem odrazivosti a obálkovou funkcí. cs
dc.description.abstract Thin-film systems play a crucial role in present modern technologies. With the view of their application and practical usage, the knowledge of the basic optical parameters, such as thickness, index of refraction and extinction coefficient, is necessary. These parameters are often determined by the indirect methods when the suitable models are combined with the experimental methods. The substrate – thin film – superstrate system is studied in the presented thesis. The substrate is constituted by the silicon single crystal wafer; thin film is represented by silicon oxide (created by so called dry oxidation methods) and air represents the superstrate. Spectral interferometry and spectral reflectometry are used for the thin-film systems measurement. A white-light Michelson interferometer and normal incidence of light are used for the spectral interferometric technique. Spectral reflectometry uses a commercial spectrophotometer Shimadzu UV-3600 (the wavelength range 185 – 3300 nm). This thesis is focused on new methods of thin-film thickness determination. A phase retrieval method from the spectral interferograms by a windowed Fourier transform and wavelet transform are applied. This method enables much simpler processing of the interference spectra because one can avoid to deal with the relatively complicated envelope function representing the visibility. In the following part of the thesis, the effect of the used reflectance model at the thin-film thickness determination is discussed. Next, a new alternative method of the reflectance measurement using the reference sample replacing of the reference mirror is presented and discussed. Further, a new method of thin film thickness determination employs a simple relation between the thin film thickness and the wavelength corresponding with the tangent of the reflectance spectra and the envelope function. en
dc.format 83 l. : il. + 1 CD-R cs
dc.format.extent 6491667 bytes cs
dc.format.mimetype application/pdf cs
dc.language.iso cs en
dc.publisher Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava cs
dc.subject waveletová transformace cs
dc.subject obálková metoda cs
dc.subject bílé světlo cs
dc.subject spektrální interferometrie cs
dc.subject rekonstrukce fáze cs
dc.subject okenní Fourierova transformace cs
dc.subject disperze cs
dc.subject tenká vrstva cs
dc.subject spektrální odrazivost cs
dc.subject Fresnelovy vztahy cs
dc.subject wavelet transform en
dc.subject envelope method en
dc.subject spectral reflectance en
dc.subject thin-film structure en
dc.subject white light en
dc.subject dispersion en
dc.subject spectral interferometry en
dc.subject windowed Fourier transform en
dc.subject retrieved phase en
dc.subject Fresnel’s formulas en
dc.title Interferometrie tenkých vrstev cs
dc.title.alternative Interferometry of Thin Films en
dc.type Disertační práce cs
dc.identifier.signature 201100121 cs
dc.identifier.location ÚK/Studovna cs
dc.contributor.referee Vlček, Jaroslav en
dc.contributor.referee Křepelka, Jaromír en
dc.contributor.referee Demo, Pavel en
dc.date.accepted 2010-10-11 en
dc.thesis.degree-name Ph.D. en
dc.thesis.degree-level Doktorský studijní program cs
dc.thesis.degree-grantor Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava. Hornicko-geologická fakulta cs
dc.description.category Prezenční cs
dc.description.department 516 - Institut fyziky en
dc.thesis.degree-program Fyzika cs
dc.thesis.degree-branch Aplikovaná fyzika cs
dc.description.result vyhověl cs
dc.identifier.sender S2735 cs
dc.identifier.thesis LUN44_HGF_P1701_1702V001_2010 en

Files in this item

Files Size Format View
LUN44_HGF_P1701_1702V001_2010.pdf 6.190Mb PDF View/Open

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search DSpace


Advanced Search

Navigation

Browse

My Account

Statistics