Praparation and characterization of nickel silicide films

Abstract

This bachelor thesis deals with the preparation of nickel silicide layers on silicon carbide substrates by physical vapour deposition, specifically magnetron sputtering, and the effect of changing conditions on their properties. Furthermore, the layers were characterized by spectroscopic ellipsometry, using which models were proposed that attempt to describe the thickness and composition of the prepared layers. The models were parameterised using oscillators. The practical part with its results is presented after a theoretical introduction outlining the basic properties of silicon carbide and nickel silicides.

Tato bakalářská práce se zabývá přípravou vrstev silicidů niklu na substrátech karbidu křemíku metodou fyzikální depozice z plynné faze, konktrétně magnetronovým naprašováním a dopadu změny podmínek na jejich vlastnosti. Dále byly vrstvy charakterizovány spectroskopickou elipsometrií, pomocí které byly navrženy modely snažící se popsat tloušťku a složení připravených vrstev. Modely byly parametrizovány pomocí oscilátorů. Praktická část s jejími výsledky je prezentovaná po teoretickém úvodu, který nastiňuje základní vlastnosti karbidu křemíku a nikl silicidů.